應(yīng)用范圍

CX-9500直讀光譜儀可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦 基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；

產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)

高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性

l 分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線，使儀器用短的時間達(dá)到優(yōu)的分析效果；

特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計

l 光學(xué)系統(tǒng)采用充氬恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性佳；

l 特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使光室容積更小，充氬速度不到普通光譜儀的一半；

l 自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。

l 儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定；

核心器件全部*

l HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；

l 銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；

l 采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；

l 開放式的電極架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

l 高性能DSP及ARM處理器，具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況；

l 固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性；

l 儀器與計算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機(jī)升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；

l 引進(jìn)歐洲技術(shù)，同光譜儀技術(shù)同步，合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣；

基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用

l 工作曲線采用標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；

光學(xué)系統(tǒng)

光學(xué)結(jié)構(gòu)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度

自動控制恒溫：35℃±0.5℃

波長范圍

160-800nm

光柵焦距

300 mm

光柵刻線

3600 l/mm

光譜線色散率

1.2 nm/mm

探測器

多塊高性能線陣CCD

平均分辨率

30pm/pixel

激發(fā)臺

氣 體

沖氬式

氬氣流量

激發(fā)時3-5L/min

電 極

鎢材噴射電極技術(shù)

吹 掃

點(diǎn)擊自吹掃功能

補(bǔ) 償

熱變形自補(bǔ)償設(shè)計

分析間隙

樣品臺分析間隙：4mm

激發(fā)光源

類 型

HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

頻 率

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術(shù)

放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計

預(yù) 燃

高能預(yù)燃技術(shù)

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器

gao端ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理

接 口

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

輸 入

220VAC 50Hz

功 率

分析時700W，待機(jī)狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h）

工作濕度

20-80%

尺寸與重量

主機(jī)尺寸

700*660*340 mm

重 量

約30Kg